BASF、欧州半導体産業支援へ…超高純度アンモニア水プラント建設を発表

ウェハー洗浄、エッチングなど半導体製造における精密プロセスを支援
ウェハー洗浄、エッチングなど半導体製造における精密プロセスを支援全 1 枚

BASFは、ドイツ・ルートヴィッヒスハーフェンに電子材料グレードアンモニア水(NH4OH EG)プラントを新設すると発表した。2027年の稼働を予定している。

新プラントで生産される超高純度アンモニア水は、半導体製造におけるウェハー洗浄、エッチング、その他の精密プロセスに使用される。欧州では半導体製造工場の新設や拡張が相次いでおり、アンモニア水をはじめとする半導体グレードの高品質かつ高純度化学品に対する需要が非常に高まっている。

新プラントで生産されるNH4OH EGは、先進的なノードのチップテクノロジーに不可欠なもので、自動車産業や人工知能(AI)をはじめとする欧州の主要産業にとって極めて重要な次世代半導体の実現を可能にする。

BASFは、半導体製造に不可欠な高純度の単一バルクケミカルや特殊な化学フォーミュレーションを供給するグローバルリーダーとして、洗浄、エッチング、金属蒸着、化学機械的平坦化(CMP)といった半導体製造工程で主に使用される材料の包括的なポートフォリオを提供している。

《森脇稔》

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