横浜ゴム、ゴムとスチールコードの接着メカニズムをナノレベルで解明…世界初

有機酸コバルトを添加したゴムと黄銅めっきスチールコードの接着界面の走査透過電子顕微鏡像(白黒表示)とコバルト分布(ピンク表示)
有機酸コバルトを添加したゴムと黄銅めっきスチールコードの接着界面の走査透過電子顕微鏡像(白黒表示)とコバルト分布(ピンク表示)全 2 枚

横浜ゴムは6月30日、東北大学多元物質科学研究所との共同研究により、タイヤの補強材であるスチールコードとゴムの接着界面における有機酸コバルトの接着性および耐劣化性向上のメカニズムをナノレベルで解明することに成功したと発表した。

本研究成果は、学術誌「Rubber Chemistry and Technology」に掲載された。

乗用車やトラック・バス、農業機械・建設車両などに使用されるタイヤには、高い剛性と形状保持性を確保するため、黄銅めっきが施されたスチールコードが補強材として用いられている。ゴムと金属の接着界面が剥離すると、バーストなどの重大な構造破壊につながるため、強固な初期接着性と長期的な耐環境劣化性が求められる。


《森脇稔》

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