JSR、SEMICON Taiwan 2008 に出展

JSRは9月9 - 11日の3日間、台湾の台北世界貿易中心展覧館で開催される「SEMICON Taiwan 2008」に出展すると発表した。

同社では、最先端のフォトレジストをはじめとするリソグラフィ材料から、CMP材料、インターコネクト材料、高密度実装技術に必要な厚膜レジストまで、電子材料分野に強みを持つJSRのテクノロジーを紹介する。