ニューモニクスとエルピーダメモリは、エルピーダの広島にある最先端の300ミリウエハファブを使用したNORフラッシュメモリの製造に関し、正式にファンダリ契約を締結したと発表した。
今回のファンダリ契約により、ニューモニクスは生産量を高めながら、携帯電話や組込み機器に広く使われている大容量NORフラッシュメモリの製造コストの削減が図れる。
両社とも、すでにエルピーダの広島工場で技術移転と開発に着手しており、2009年中に最初の生産を開始する予定だ。エルピーダは、月産約12万枚のウエハ生産能力の一部を、ニューモニクスの65ナノメートルプロセスNORフラッシュメモリ製品と、今後計画している45ナノメートルプロセスの製造に割り当てる予定。
エルピーダとの契約締結により、最先端のリソグラフィ装置と300ミリウエハの相乗効果が生まれ、ニューモニクスは競争力の強化を図る。
