レゾナック、SiCウェハーの生産建屋新設、2025年後半に完成へ

レゾナックがSiCウェハーの生産建屋を新設。完成イメージ
レゾナックがSiCウェハーの生産建屋を新設。完成イメージ全 2 枚

レゾナックは9月13日、レゾナック・ハードディスクの山形工場内に、パワー半導体向けの炭化ケイ素(SiC)ウェハー(基板・エピタキシャル)の生産建屋を起工した、と発表した。

今回の新設は、経済産業省から2023年6月16日に認定を受けた経済安全保障推進法に基づく特定重要物資、半導体部素材(SiCウェハー)の供給確保計画の実現に向けた取り組みの一環だ。


《森脇稔》

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